| 產品規格︰ | 目台X電; 聯X電...等 皆選用此機型
提升良率; 確認wiper擦拭方式及機台保養是否達到清潔的效果
注意事項：
應用:
美國Pentagon Technologies針對從submicron至deep submicron (0.18, 0.13..) 的Production機台, 建立了特別的PM procedure可降低50% Test Wafer的消耗量及增加OEF(Overall Equipment Effectiveness), 其應用於各種Thin Film( PVD, CVD..), Etching and Diffusion Equipments. 以及工作台面積台表面潔淨度..等的驗証. 此已為目前機台維護作業時的標準工具之一.以及搭配MetOne Particle Counter對Mini-environment中量測particle, TRH, DP, velocity..的監視系統可幫助Module equipment, process engineer/manager瞭解contamination issue.
Pentagon Technologies 亦針對Fab整體的contamination可提供詳細的偵測及評估(曾在TSMC, UMC,ADM fab 25…)進而提高OFE (Overall Fab Effectiveness), 這可提供QA人員非常advanced的幫助。 |
| 產品優點︰ | 適合使用單位:
1.適合客戶群: 半導體黃光, 蝕刻製程, 零件清洗商,設備清潔維護, 光電廠, 玻璃基板廠等
2.Capture filter 能收集particles .由EDX 或FTIR分析particle 成分。
3.適合單位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC , Microntation , Etch, Diffusion..
4.對曝光機; 顯影機 ,蝕刻, 黃光 及偏光板貼附機台效果顯著 |
| 主要市場︰ | 半導體黃光, 蝕刻製程, 零件清洗商,設備清潔維護, 光電廠, 玻璃基板廠等 |
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